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Duparré, Angela

Overview
Works: 25 works in 145 publications in 2 languages and 1,294 library holdings
Genres: Conference papers and proceedings 
Roles: Editor, Other, Author, Publishing director
Publication Timeline
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Most widely held works by Angela Duparré
Advanced characterization techniques for optical, semiconductor, and data storage components : 9-11 July 2002, Seattle, Washington, USA( )

15 editions published in 2002 in English and held by 153 WorldCat member libraries worldwide

Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries : 30-31 July 2000, San Diego, USA( )

13 editions published between 2000 and 2001 in English and held by 149 WorldCat member libraries worldwide

Optical metrology roadmap for the semiconductor, optical, and data storage industries II : 2-3 August, 2001, San Diego, USA( )

17 editions published in 2001 in English and held by 145 WorldCat member libraries worldwide

Advanced characterization techniques for optics, semiconductors, and nanotechnologies : 3-5 August 2003, San Diego, California, USA( )

11 editions published in 2003 in English and held by 141 WorldCat member libraries worldwide

Optical fabrication, testing and metrology II : 13-15 September 2005, Jena, Germany( )

13 editions published in 2005 in English and held by 125 WorldCat member libraries worldwide

Advanced characterization techniques for optics, semiconductors, and nanotechnologies II : 2-4 August, 2005, San Diego, California, USA( )

11 editions published in 2005 in English and held by 114 WorldCat member libraries worldwide

Advanced characterization techniques for optics, semiconductors, and nanotechnologies III : 28-29 August 2007, San Diego, California, USA by semiconductors, and nanotechnologies Advanced characterization techniques for optics( )

10 editions published in 2007 in English and held by 104 WorldCat member libraries worldwide

Optical fabrication, testing, and metrology III : 2-4 September 2008, Glasgow, United Kingdom by testing, and metrology Optical fabrication( )

15 editions published in 2008 in English and held by 101 WorldCat member libraries worldwide

Optical fabrication, testing, and metrology IV : 7-8 September 2011, Marseille, France by Angela Duparré( )

11 editions published in 2011 in English and held by 98 WorldCat member libraries worldwide

Annotation
Optical Systems Design 2015: Optical Fabrication, Testing, and Metrology V : 7-10 September 2015, Jena, Germany by Angela Duparré( )

8 editions published in 2015 in English and held by 70 WorldCat member libraries worldwide

Table top system for angle resolved light scattering measurement by Alexander von Finck( )

1 edition published in 2014 in German and held by 5 WorldCat member libraries worldwide

Die Messung und Analyse von Streulicht hat in den vergangenen Jahren wesentlich an Einfluss gewonnen. Der Mangel an Messsystemen die sowohl flexibel als auch kompakt sind, motivierte diese Arbeit zur Entwicklung eines winkelauflösenden Table-Top Streulichtmesssystems mit dazugehörigen Auswertemethodiken.Das realisierte Table-Top Goniometer weist kompakte Abmaße von <0,8x0,8x0,8 m 3 auf und ermöglicht die Messung von 3D-Streulichtverteilungen bei Beleuchtungwellenlängen von 405 nm, 532 nm und 640 nm. Mit erreichten Sensitivitäten, die nur durch die Luftstreuung begrenzt sind, wurde eine Dynamik von 14 Größenordnungen erzielt. Die kompakte Konstruktion wurde durch ein spezielles Achsdesign und über Faltung der Strahlengänge erreicht. Messunsicherheit und Instrumentesignatur wurden anhand von neu entwickelten Modellen und Simulationen analysiert. Darauf aufbauend erfolgten Optimierungen. Basierend auf dem Frequenzmultiplex-Prinzip wurde ein Konzept zur Ermöglichung paralleler Streulichtmessungen mit hoher Sensitivität und Dynamik entwickelt. Hiermit lässt sich das gestreute Licht unterschiedlicher Beleuchtungswellenlängen und/oder -polarisationen in verschiedenen Messkanälen gleichzeitig detektieren. Es wurde eine streulichtbasierte Analysemethode anisotroper Oberflächen eingeführt, die einen direkten Bezug zu optischen und rauheitsbeschreibenden Eigenschaften aufweist. Hiermit ließen sich erstmals Rauheitskomponenten unterschiedlicher Ursache bei ultrapräzisionsbearbeiteten diamantgedrehten Oberflächen als Funktion der Ortsfrequenz trennen. Der Einfluss von Anisotropie bei unterschiedlichen Beleuchtungswellenlängen wurde untersucht. Über Streulichtanalyse mit mehreren Beleuchtungswellenlängen wurde eine hochrobuste Rauheitscharakterisierung demonstriert. Hiermit ließen sich Kontaminationen auf beschichteten und unbeschichteten Substraten sowie Rauheitswachstum in Dünnschichtfilmen nachweisen. Es wurde gezeigt, dass sich Diamantschliffe über die Auswertung von 3D-Streulichtverteilungen charakterisieren lassen. Es können beispielsweise die Politurgüte einzelner Facetten sowie die optische Performance von Brillanten bewertet und klassifiziert werden
Entwicklung und Anwendung eines Messsystems zur Bestimmung des totalen Streulichts von optischen und technisch rauhen Oberflächen und Schichten by Stefan Gliech( )

1 edition published in 2003 in German and held by 4 WorldCat member libraries worldwide

In der Dissertation wurden die Konzeption, der Aufbau und die Anwendung eines selbstentwickelten Messsystems zur Erfassung der totalen Streuung in Rückwärts- und Vorwärtsrichtung von Festkörperoberflächen und Schichten dargestellt. Dieses Messsystem nimmt u.a. durch die erreichten Sensitivitäten (> 7 Größenordnungen) und das verfügbare Messwellenlängenspektrum (157 nm bis 10,6 æm) eine international herausragende Stellung ein. Das Einsatzspektrum des Messsystems umfasst Substrate und Beschichtungen für Optiken im UV- bis IR-Wellenlängenbereich sowie technisch rauhe Oberflächen. Gleichzeitig ermöglichen das breite Wellenlängenspektrum und die Vielzahl der Einzelwellenlängen die Messung bei den jeweiligen Einsatzwellenlängen optischer Komponenten. Verschiedene Messverfahren zur Erfassung von Streulicht wurden miteinander verglichen und der Einsatz einer Coblentzkugel begründet. Die einzelnen Komponenten des Messsystems sowie das Abbildungsverhalten der Coblentzkugel werden detailliert erläutert und der Gesamtfehler des Messsystems abgeleitet. Bei dem Messsystem wurde erstmals eine eine Drehung der Coblentzkugel um die Probenoberfläche und die Arretierung der Coblentzkugel in den jeweiligen Messpositionen zur Erfassung der Vorwärts- und der Rückwärtsstreuung realisiert. Hierdurch ist es erstmals möglich, die zuvor justierten Einstellungen beider Streulichtrichtungen präzise, schnell und unabhängig von Positionierfehlern des Drehsystems unter Beibehaltung der Einstrahlbedingungen an der Probenposition hinsichtlich Strahlleistung, -durchmesser und -divergenz wiederzufinden. Gute bis sehr gute Übereinstimmung der Messwerte mit denen anderer TS-Messanordnungen wurden innerhalb von Round-Robin-Experimenten erzielt. Die Funktionstüchtigkeit, Leistungsfähigkeit und Einsatzbreite des TS-Messsystems wurden anhand einer Reihe von Messungen an verschiedenen Oberflächenarten demonstriert. Bei Vergleichen mit Messergebnissen anderer Messverfahren wurden gute bis sehr gute Übereinstimmungen erreicht. Die Einsatzbreite wurde anhand von superpolierten Si-Wafern, optischen Oberflächen und Schichtsystemen sowie technisch rauhen Oberflächen bei jeweils nach Einsatzfall ausgewählten Wellenlängen nachgewiesen
Advanced characterization techniques for optical, semiconductor, and Nanotechnologies II : 2-4 August 2005, San Diego, California, USA( Book )

2 editions published in 2005 in English and held by 2 WorldCat member libraries worldwide

 
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Advanced characterization techniques for optics, semiconductors, and nanotechnologies : 3-5 August 2003, San Diego, California, USA
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Optical Systems Design 2015: Optical Fabrication, Testing, and Metrology V : 7-10 September 2015, Jena, Germany
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German (14)